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首頁（yè） > 技術文章

多晶矽（guī）還（hái）原爐內主要汙染物及清洗（xǐ）工藝

時間：2016-10-12     來源： 北京TXVLOG糖心短视频网站潔清潔設備有限公司

從2010年至今，光伏產業呈現出了強勢的複蘇態勢，光伏市場需（xū）求旺盛。高純多晶矽是電子工業和太陽（yáng）能光伏產業的基礎（chǔ）原料也是主要（yào）原料，在整個生產過程中，對產品（pǐn）質量的控製要求很高。目前，生產多（duō）晶矽主要采用改良西門子法，對還原爐的沉積環境的潔淨度要（yào）求特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質餘（yú）留在爐內，都會對產品質量造成影響。
 
多晶矽矽棒
 
一、多（duō）晶矽還原爐（lú）內主要汙染物
 
根據多晶矽生產原理及實（shí）際生產情況分析（xī），還原爐基（jī）盤及（jí）鍾罩表麵主（zhǔ）要汙染物為無（wú）定形矽粉，其次為多晶矽顆粒物、氯矽烷水解物及部分粉塵雜質。
 
1、無定形矽
 
還原爐在一個周（zhōu）期運行後，基盤及鍾（zhōng）罩表麵均會產生一層土黃色粉末，主要成分為無定形矽粉。基盤（pán）冷卻水溫度偏高，在還原爐基盤（pán）尾氣出口也會產生無定形矽。這些無定形矽易形成一（yī）層膜附在基盤和（hé）鍾罩內（nèi）表麵，甚至在電極和石英環表麵。
 
2、氯矽烷（wán）水解物
 
多晶矽打開鍾罩前（qián）要進行嚴（yán）格的（de）氮氣置換，但因還原爐結構複雜，在進料口（kǒu）、尾氣（qì）管、窺視鏡等地方易形成置（zhì）換死角，置換後爐內仍會預留部分氯矽烷氣體（tǐ）。當爐筒提起後，氯矽烷殘留氣體（tǐ）與空氣接觸，會在基盤（pán）及爐筒表麵形成（chéng）水解物。這些水（shuǐ）解物一般附著在進料管口及尾氣管口，其中矽酸鹽物質為白色膠狀沉澱，二氧化矽為（wéi）白色粉末狀固體，氯化氫遇潮（cháo）形成（chéng）鹽酸殘留在基盤表（biǎo）麵。
 
3、多晶矽顆粒物
 
還原爐停爐過程（chéng）中，因停爐溫度控製不均，易造成矽棒破裂（liè），產（chǎn）生多晶（jīng）矽碎（suì）屑；收割矽棒過程中也會有部分碎屑遺留；如果遇到倒棒，碎屑遺留會更多。
 
4、其他雜（zá）物
 
在收割矽棒中，會帶入少量的粉（fěn）塵、油脂等汙染物。油（yóu）分子對多晶矽的危害十分（fèn）嚴（yán）重（chóng）可能（néng）造成多晶矽反應速度減慢，產量降低，甚至矽反應停止。
 
二、多晶矽還原爐清（qīng）洗方法
 
多晶矽還原爐（lú）鍾罩清洗前（qián）後對比
 
現今各生產廠家在開發新技術、進行技術改造的同時，通過對設備的清洗來（lái）降低能耗和保證（zhèng）多晶矽的產（chǎn）品質量。還原爐（lú）沉積多晶矽是間歇操作，一個運行周期結束後需要打開鍾罩收割矽棒，然後進行基盤（pán）清理，再裝矽芯進行下一個周期（qī）的化學氣相沉積。因此（cǐ），想提高（gāo）設備運轉（zhuǎn）率、降低能耗，選擇方便、快捷、處理效果好的清理工藝尤為關鍵。
 
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統是（shì）以高壓清洗機為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三維旋轉（zhuǎn）噴頭形成360°的網狀高壓（yā）水柱噴射表（biǎo）麵，從而完成鍾罩內部表麵的水力掃射，並（bìng）采用專用清洗劑等為（wéi）主（zhǔ）要清洗液，先用純水（去離（lí）子水或叫脫鹽水）漂洗，之後再采用高（gāo）純水衝洗，最終完成清（qīng）洗過（guò）程。
 
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶矽還原爐（lú）鍾罩清洗係（xì）統核心部件高壓泵采用進口（kǒu）耐酸堿、耐高溫、全不鏽鋼的加壓泵，並利用多晶（jīng）矽生（shēng）產廠家的蒸汽餘熱將清洗介質（zhì）加熱，從而改變原電加熱工（gōng）藝。我公司自行研發設計（jì）的自驅動旋轉升降噴射機構可適應各規格的（de）還（hái）原爐體。
  • 標簽（qiān）：
  • 多晶矽
  • 還原爐
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